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lpcvd pecvd比較
低壓化學氣相沉積(Low-pressureCVD,LPCVD):在低壓環境下的CVD製程。降低...電漿增強化學氣相沉積法(Plasma-EnhancedCVD,PECVD):利用電漿增加前驅物的反應速率。,2007年5月21日—與APCVD系統相比較,LPCVD系統的主要優點在於具有優異的薄膜均勻度,以及較佳的...
电池片LPCVD、PECVD和PVD三种技术路线
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2024年4月21日—...PECVD、管式PECVD和板式PECVD。微波PECVD沉积速率高达100A/s,但目前沉积的氧化硅膜较厚,且维护成本比较高。管式PECVD和板式PECVD同样可以实现原位掺 ...
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